原生洁净，安心之源：KITZ开滋Unipore工艺Clean N系列褶皱滤波器

在追求工艺纯粹性的道路上，过滤元件的原生洁净度与可萃取物控制，已成为决定最终产品品质的起点。尤其对于敏感的生物制药、高纯化学等尖端领域，任何源于滤材本身的微量释放都可能是无法承受的风险。KITZ开滋，以超越行业标准的严苛自我要求，推出 Unipore工艺Clean N系列褶皱滤波器。它不仅仅是一个过滤单元，更是从源头保障工艺流体本征纯净的“原生洁净卫士”。

一、核心作用：提供超低释放的洁净过滤

Unipore Clean N系列的核心使命，是从源头杜绝过滤环节可能引入的二次污染。其设计理念贯穿了“洁净制造”，从原材料筛选、生产过程到最终清洗封装，均在受控的超净环境中完成，并对可萃取物与可释放颗粒进行极致控制。它的核心作用是，在进行高精度终端过滤的同时，确保自身向流体中释放的有机物、无机离子及微粒降至极低水平，满足最严格的生产工艺对纯净背景的要求，守护最终产品的安全与有效性。

二、核心优势：为纯净工艺而生的卓越保障

1、极低的溶出物与可萃取物

系列采用经过特殊纯化与处理的最高等级过滤介质，并通过独特的制造工艺和严谨的清洁流程，确保滤芯具有极低的有机物、金属离子及内毒素溶出水平。这为敏感工艺提供了洁净的过滤背景，避免了因滤材释放而污染产品、影响化学反应或细胞培养的风险。

2、卓越的过滤精度与批次一致性

在保证超低释放的前提下，Clean N系列毫不妥协于其物理过滤性能。它提供精确且稳定的截留精度，对颗粒、微生物的去除效率极高。更重要的是，严格的生产控制确保了卓越的产品批次间一致性，为用户提供可预测、可重复的过滤效果，这是验证驱动的行业所必需的关键特性。

3、广泛的兼容性与可验证性

滤芯材质具备优异的化学兼容性，适用于多种溶剂和工艺流体。其设计和制造过程遵循严格的质量管理体系，提供完整的可追溯性与验证支持文件(如可萃取物研究数据、完整性测试标准)，极大地简化了用户在产品注册与生产变更中的合规流程。

三、应用场景：追求本征纯净的尖端领域

Unipore工艺Clean N系列是以下对“纯净”有着至高要求行业的基石性选择：

1、生物制药与细胞基因治疗：用于关键工艺流体(如细胞培养基、缓冲液、病毒载体溶液、蛋白质纯化洗脱液)的终端除菌或除颗粒过滤，最大限度降低外源性引入风险，保障生物活性与终产品安全。

2、注射剂与眼药液生产：作为终端除菌过滤的最后屏障，其超低的溶出物特性是防止热原反应、确保制剂澄明度与眼用制剂安全性的关键。

3、高纯化学与电子湿化学品：在超高纯度化学试剂、光刻胶、蚀刻液的终端过滤中，防止滤芯成为杂质来源，确保化学品满足半导体制造对ppb/ppt级杂质控制的苛刻要求。

4、高端实验室与分析应用：为HPLC流动相、标准品制备、精密分析实验提供背景洁净的超净过滤，确保分析结果的准确性与可靠性。

选择KITZ开滋Unipore工艺Clean N系列，即是选择从过滤的源头定义纯净。它以科学级的洁净标准，主动消除潜在干扰，让您的工艺在绝对纯净的基石上，成就无可置疑的品质高度。