深层净化，工艺核心：KITZ开滋Unipore工艺净化P系列褶皱滤波器

在高端制造与精密工艺中，流体的终极洁净度是决定产品成败的微观基石。当过滤需求超越常规，迈向近乎绝对纯净的领域时，便需要更精密的过滤技术与结构。KITZ开滋，以其对极致纯净的不懈追求，推出采用先进褶皱滤芯技术的 Unipore 工艺净化P系列过滤器。它并非普通过滤器，而是专为保障超高纯度工艺流体而设计的“终极净化卫士”。

一、核心作用：实现极低微粒含量的精密终端过滤

Unipore P系列的核心在于其独特的深层过滤结构与精密褶皱工艺。通过将高精度过滤介质折叠成密集的褶皱，它在紧凑的空间内实现了巨大的有效过滤面积和更深的污染物容留空间。其核心作用是作为工艺流程中的最终保障环节，对经过预处理的流体进行终端精滤，深度截留亚微米级甚至更小的颗粒、胶体及析出物，稳定产出满足最严苛标准的超净流体，直接守护最终产品的品质与良率。

二、核心优势：为超高纯度而生的卓越性能

1、极高的过滤精度与稳定的截留率

系列提供从微米到亚微米级的多种精度选择，凭借均匀的介质和深层过滤机制，对目标粒径颗粒的截留效率极高且稳定，能有效控制下游流体中的颗粒数量与尺寸分布，满足如ISO、ASTM等国际高洁净度标准。

2、超大纳污量与超长使用寿命

独特的深层褶皱结构提供了远超表面过滤形式的污染物容留能力，带来极高的纳污量。这意味着在保持高精度过滤的同时，压差上升缓慢，滤芯更换周期显著延长，从而降低了运行中断频率与总体拥有成本。

3、卓越的化学兼容性与超低溶出

滤芯材质(如聚丙烯、PTFE、尼龙等)经过严格筛选和纯化处理，具备广泛的化学兼容性。更为关键的是，其极低的溶出物特性，确保在过滤高纯化学品、药剂或工艺用水时，不会引入新的杂质，保障流体的本征纯度。

三、应用场景：尖端产业的纯净命脉

Unipore 工艺净化P系列是以下对流体洁净度有极限要求行业的核心配置：

1、半导体与集成电路制造：用于光刻胶、CMP浆料、超高纯化学品(UPW)以及气体洗涤用水的最终过滤，是控制晶圆表面缺陷、提升芯片良率不可或缺的关键一环。

2、生物制药与无菌生产：作为终端除菌过滤或除颗粒过滤，用于关键工艺流体、培养基、缓冲液及最终制剂产品的净化，确保符合cGMP对无菌及不溶性微粒的严苛药典要求。

3、平板显示与精密光学：在液晶、光学薄膜、玻璃基板清洗等工艺中，对清洗剂、蚀刻液等进行终端精滤，防止微小颗粒造成划伤、亮点等缺陷。

4、高端化工与电力：用于离子膜烧碱、核电一回路、燃料电池电解液等系统的精密过滤，保护核心膜元件与设备，保障系统安全稳定长周期运行。

选择KITZ Unipore工艺净化P系列，即是选择以深层的过滤科技，构筑工艺纯净的终极防线。它用确定的纯净，守护您产品中不容有失的微观世界。